低溫恒溫循環器常應用於對半導體製造裝置發熱部的冷卻
：單晶片洗淨轉載
、印刷機
、自動夾座安裝裝置
、噴塗裝置
、離子鍍裝置
、蝕刻裝置
、單晶片處理裝置
、切片機
、包裝機
、顯影劑的溫度管理
、露光裝置
、生磁部分的加熱裝置等
。並且對激光裝置發熱部分的冷卻
：激光加工
、熔接機的發熱部分
、激光標誌裝置
、發生裝置
、二氧化碳激光加工機等起到很大作用
。
低溫恒溫循環器主要特點:
●內置BosesiLAB溫度控製程序,確保設備運行穩定
。
●風冷式全封閉製冷壓縮機,降溫速度快
。
●微機智能控製,溫度穩定
。
●內膽為不鏽鋼
，清潔衛生，美觀耐腐蝕
。
●數顯分辨率0.1℃或0.01℃
，具有溫度測量值偏差修正功能
。
●溫度超溫保護,自動切斷電源並報警
。
●製冷係統過熱
、過流自動保護
。
低溫恒溫循環器說明
：
1.根據大空間製冷原理
，采用全新改進蒸發器
，降溫更迅速
、溫度更均勻;
2.全新設計的電路
，PID輸出
，控溫更;
3.功能鍵均采用觸摸軟鍵;
4.溫度
、時間數顯;
6.具備超溫
、差溫報警功能
7.采用風冷式全封閉壓縮機組
，進口壓縮機
，製冷量大;
8.可在工作槽內進行低溫實驗或將槽內冷液外引
，冷卻機外實驗器;
